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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

业务时代背景 该半导体技术研制客户设在华中地方,其主要生产加工集合电线净化工作器,日废气排放物含氟焦化焦化废水约800吨。随着立即低能耗标准规范提高自己,改变净化工作配制没有办法规范氟化物废气排放物浓硫酸浓度远低于5mg/L的新规范,客户成本11000万元创建专科含氟焦化焦化废水净化工作系統。 废水处理有效成分及由来 工业废水通常来缘于于存储芯片制造技术的时候中的刻蚀步骤和难以清理步骤,通常废弃物物涵盖: 氟化合物浓硫酸浓度:300-800mg/L pH值:2- 含有一少部分硅酸盐、磷酸 轻微血本属如铜、镍等 治理工艺操作流程操作流程 进行"采样+物理凝固+深入处置"组和工艺技术: 调低池:均衡教育地表水发电量,设有pH再线监测技术 1级反映池:污泥脱水氢硫化钙,调控pH至7-8,形成了氟化钙凝固 四级放置出的池:放置出的剥离氟化钙生活污水 五级不良反应池:污泥脱水氯化钙和汇聚氯化铝,进一部的还原残留物氟正离子 下级奠定池:四次奠定脱离 砂滤整体:洗去浮动物 活力炭降解:除掉巧妙物和轻微血本属 活性污泥正确处理正确处理体统:板框压滤缺水,活性污泥正确处理含水量率低于60%下 进而功效 系统进行稳定的后,出水量水硬度: 氟阴阳离子密度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属纯度均远低于验出限 充分够满足《电子技术工农业水影响物废气的标准》(GB39731-2020)的标准,常年才能减少氟化物废气约180吨。

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