建设项目蓝本 天津某半导体设备厂的生产进程中直接行成高硅污废污水 （SiO₂ 500-800mg/L）和含氟污废污水 （F⁻ 200-300mg/L）。两种方式污废污水 结合而后容易确立氟硅酸固体，民俗化学沉淀自己法难稳定性的标准。品牌条件搜集彻底清除硅和氟（排污的标准：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 电镀废水材料及源于 注意成份 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 来源于 ：晶圆刻蚀工业废水处理方法、CMP研磨机工业废水处理方法、设施喷洗水 清理鑫霖环保程序流程 一体化沉淀物时段. ： 有级症状池 ： 1级添加Ca(OH)₂转为CaF₂和CaSiO₃积淀； 2.级污泥脱水PAC（聚合物氯化铝）升星水解酸化池。 固液离心分离时段. ： 反渗透装置系統 ：选取0.02μm管径膜部件挪用悬浊液硅和微细乳浊液物。 深浅脱氟环节 ： 活性酶钝化铝物理吸附塔 ：残留氟阴阳离子活性炭吸附清除。 最中体验 溢水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远具有国家标。 反渗透膜系统软件通量增强在15LMH，耐腐蚀冲洗过渡期延长了至60天。 生活污水经压滤后含水量率＜65%，可按通常情况废弃物应对。