某半导基带芯片精加工设备厂在晶圆精加工时候中，选用硅烷做好硅本质繁殖，烟气洗條塔产生了高溶液浓度含硅电镀污废水 。电镀污废水 具备有pH上下波动大（2-11）、硅成分高的共同点，传统性加工处理方式方法易造成硅垢阻塞方面。 废液部分及因素 废水处理重要成份为： 溶于性硅酸盐 ：SiO₂浓度值达1000-1500mg/L 盐酸/氢氧化反应钠 ：洗洁塔酸碱平衡洗洁液存留 顆粒硅 ：微米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：成分杂物带进 整理的工艺步骤 特色化所采用"多级中合+膜过滤程序+挥发晶体"工艺技术： 3级中合 ：用CaO调理pH至4-5，出现硅酸钙沉定，硅去掉率60%。 二级考试结合 ：加Na₂CO₃将pH增加至9，进1步发展剩下硅，串连用镁剂除砷。 超滤膜装置 ：0.02μm陶瓷厂家膜活性炭过滤微米级硅颗粒状，通量不稳在80LMH。 MVR蒸馏器 ：高浓高盐焦化废水，结晶体出Na₂SO₄副软件，水回收利用率超90%。 终结郊果 总硅从1500mg/L减少为5mg/L一下 砷含水量从0.8mg/L低于0.01mg/L 控制系统无结渣执行超2年 每次再利用氢氧化钾钠结晶约800吨